LPCVD (Low Pressure Chemical Vapor Deposition) se yon teknoloji debaz pwosesis semiconductor. Men ki jan li fonksyone: nan kondisyon presyon ba -, konpoze gaz yo chofe pou deklanche reyaksyon, kite fim solid ki estab ki mens sou sifas substra yo. Li se sitou itilize pou fim kle tankou nitrur Silisyòm, oksid Silisyòm, ak Silisyòm polikristalin-pafè pou bezwen pwosesis debaz yo nan sikwi entegre, aparèy optoelektwonik, ak jaden menm jan an.
Nice-Tech te devlope poukont li de modèl LPCVD: orizontal ak vètikal. Tou de rekòmanse pou kontwòl tanperati ki wo -presizyon ak inifòmite fim ki pi wo-, ki kouvri tout bagay soti nan verifikasyon R&D rive nan pwodiksyon gwo-echèl. Modèl orizontal la se gwo pou 8-pous ak pi piti wafers-li chanje san pwoblèm ant oksidasyon, difizyon, rkwir, ak lòt pwosesis, sa ki fè li ideyal pou pwodiksyon pakèt ak chèk pwosesis. Vètikal la, ak konsepsyon modilè li yo ak entegrasyon otomatik li, okipe 6-12 pous. Li se yon pi bon anfòm pou liy pwodiksyon entèlijan ki bezwen depo efikas. Ansanm, yo ofri solisyon depo ki estab, serye ak ba presyon pou fabrikasyon semi-conducteurs-pa gen konfigirasyon konplike, jis pèfòmans ki konsistan lè li konte.
I. Pwen Seleksyon Debaz yo
1. Wafer Size: Orizontal LPCVD travay ak 8-pous ak pi piti wafers. Vètikal LPCVD kouvri yon ranje pi laj (6-12 pous), kidonk li se ale-pou pwodwi an mas gwo-gwosè wafers.
2. Bezwen Senaryo: Si w ap fè R&D oswa verifikasyon milti-pwosesis, LPCVD orizontal se pi bon parye ou -pou chanje pwosesis fasil li yo (oksidasyon, difizyon, rkwit, elatriye) adapte pafètman bezwen sa yo. Pou pwodiksyon an mas gwo -echèl oswa entegrasyon ak liy pwodiksyon entèlijan, Vètikal LPCVD se pi bon gras a konsepsyon modilè li yo ak automatisation.
3. Fim & Pèfòmans: Tou de modèl sitou depoze Silisyòm nitrure, oksid Silisyòm, ak Silisyòm polikristalin. Men, si ou bezwen fim espesyal, solisyon koutim yo disponib ki baze sou kondisyon espesifik pwosesis ou yo. An tèm de pèfòmans, orizontal LPCVD gen yon inifòmite nan mwens pase oswa egal a ± 2%, pandan y ap vètikal frape mwens pase oswa egal a ± 3%. Tou de opere ant 500 degre ak 800 degre, ki matche ak ba -pwosesis depo vapè chimik presyon pou pifò fim mens semi-conducteurs endikap yo.
II. Senaryo aplikasyon kle
1. Integrated Circuits (ICs): Li se yon etap kle nan fè CMOS, IGBT, ak lòt chips -prepare oksid pòtay ak dielectrics entèrlayer ki afekte dirèkteman pèfòmans chip.
2. Aparèy Optoelectronic: Pou aparèy VCSEL, li depoze fim optik ki ajiste tou de pwopriyete optik ak elektrik pou fè aparèy yo travay pi byen.
3. Wide-Bandgap Semiconductors: Travay san pwoblèm ak Silisyòm carbure (SiC) mens -fim depo, satisfè bezwen yo nan aparèy pouvwa tanperati ki wo -.
4. Rechèch syantifik: Bon pou ti -esperyans pakèt-si w ap teste nouvo materyèl tankou niobat ityòm oswa eksplore nouvo pwosesis tankou depo fim pwopòsyon chip chip.
III. Gwoup Kliyan Apwopriye
1. Enstitisyon rechèch ak inivèsite: LPCVD orizontal se yon fason pou ale. Kapasite li pou chanje ant diferan pwosesis fè li trè pratik pou ti pwojè rechèch -pakèt ak bezwen divès.
2. Mwayen ak ti -Echèl Semiconductor Enterprises: LPCVD orizontal ofri gwo valè. Li fleksib ase pou ti -pakèt R&D, ak matirite, mache -estrikti pwouve tou sipòte pwodiksyon an mas 8-pous ak pi piti wafers-pafè si ou bezwen konbine plizyè pwosesis.
3. Gwo -Entrepriz Faktori Echèl: LPCVD vètikal se yon obligasyon. Li kouvri 6-12 pous wafers ak entegre san pwoblèm ak liy pwodiksyon entèlijan, ranfòse efikasite pou gwo echèl manifakti.
4. Optoelektwonik & Wide-Manifaktirè Materyèl Bandgap: Chwazi ki baze sou echèl pwodiksyon ou a. LPCVD vètikal se ideyal pou pwodiksyon an mas, pandan y ap LPCVD orizontal kostim faz R&D kote ou ta ka bezwen teste diferan paramèt.
5. Yon nòt rapid sou antretyen: Tou de aparèy anjeneral bezwen sèvis chak 6 a 12 mwa -bagay tankou netwayaj kavite ak kalibrasyon sistèm kontwòl tanperati. Tan egzak depann de frekans itilizasyon ak konpleksite pwosesis, men ekip apre-lavant nou an voye rapèl regilye pou kenbe bagay yo sou wout.
