Netwayaj wafer refere a pwosesis pou sèvi ak metòd chimik oswa fizik pou retire kontaminan ak oksid nan sifas yon wafer pandan fabrikasyon sikui entegre yo, yo nan lòd yo satisfè kondisyon yo pwòpte nan sifas la wafer. Prensip la nan netwaye wafer se retire divès kalite enpurte san yo pa domaje wafer la.
Gen kat mekanis prensipal pou retire patikil: yap divòse, dekonpozisyon oksidatif, repouse elektrik ant patikil ak sifas wafer Silisyòm, ak ti kras korozyon nan sifas wafer Silisyòm.
Pou retire patikil metal yo, yo itilize solisyon SC-2 oswa solisyon HPM pou diminye kontni an metal sou sifas wafer la. Solisyon SC-2 a sibi kristalizasyon, ki ka ogmante kantite patikil sou sifas wafer la apre w fin netwaye. Se poutèt sa, HF ka itilize olye pou yo HCL, oswa O3 konbine avèk HF ka itilize olye pou yo solisyon SC-2 efektivman retire patikil metal.
Pou polyan òganik, solisyon SPM oswa UV / ozòn teknoloji netwayaj sèk anjeneral yo itilize pou retire li.
Apre netwaye mouye, wafer la dwe byen seche pou asire ke pa gen okenn mak dlo sou sifas la anvan ou antre nan pwochen pwosesis la. Twa mòd siye ki pi komen ki disponib kounye a se seche rotary, siye Marangoni, ak atomizasyon izopropanol cho.
