Photoresist se yon melanj de polymère ak kèk konpoze, pami ki pi enpòtan an se yon dèlko asid foto (PAG). Lè foton yo frape PAG, yo pwodui yon asid ki reyaji ak polymère a, dekonpoze li epi ki lakòz li fonn pa pwomotè a.
Fotolitografi fotorezist anjeneral divize an de kalite: fotorezist pozitif ak fotorezist negatif.
Photoresist pozitif: Pòsyon ekspoze a idrosolubl nan solisyon pwomotè a, pandan y ap pòsyon ki pa ekspoze a solubl nan solisyon pwomotè a. Apre devlopman, modèl photoresist ki rete sou substra a se menm ak modèl sib la sou plak mask la.
Photoresist negatif: Pòsyon ekspoze a se solubl nan solisyon pwomotè a, pandan y ap pòsyon ki pa ekspoze a idrosolubl nan solisyon pwomotè a. Modèl fotorezist ki rete sou substra a apre devlopman se konplemantè ak modèl sib la sou plak mask la.
Se poutèt sa, pou fotoresist pozitif, grave substra a san pwoteksyon fotorezist apre fotolitografi fini, epi finalman lave fotoresist ki rete a, reyalize pwosesis la konstriksyon yon sèl -etap nan aparèy semi-conducteurs sou sifas la substra.
